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藍(lán)寶石襯底研磨拋光工藝與耗材方案|吉致電子CMP廠家

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2025-12-25 16:47【

在LED芯片制備流程中,藍(lán)寶石襯底的表面質(zhì)量直接決定后續(xù)芯片性能與成品良率,而表面平坦加工的核心目標(biāo),便是精準(zhǔn)去除線切割工藝遺留的線痕、裂紋及殘余應(yīng)力等表面與亞表面損傷層,為L(zhǎng)ED芯片制備提供符合嚴(yán)苛要求的襯底表面。其中,化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)工藝是實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石襯底超精密平坦化的關(guān)鍵技術(shù)路徑,而雙面研磨、單面精磨與CMP工藝的合理搭配,以及適配的研磨拋光耗材選擇,更是保障加工質(zhì)量的核心環(huán)節(jié)。本文將深入解析相關(guān)工藝特性,并分享耗材選擇的關(guān)鍵要點(diǎn)。

一、核心加工工藝:雙面研磨與單面精磨的技術(shù)特性

藍(lán)寶石襯底的平坦化加工是一套循序漸進(jìn)的精密工藝體系,雙面研磨與單面精磨作為前置關(guān)鍵工序,分別承擔(dān)著不同的加工使命,共同為后續(xù)CMP拋光奠定基礎(chǔ)。

1.雙面研磨:高效修正翹曲度的前置基礎(chǔ)工藝

雙面研磨通過上、下研磨盤的實(shí)時(shí)同步加工模式,可對(duì)藍(lán)寶石襯底的兩個(gè)平面同時(shí)進(jìn)行研磨處理。這一工藝的顯著優(yōu)勢(shì)在于,能最大限度減小兩個(gè)平面因單側(cè)加工產(chǎn)生的應(yīng)力應(yīng)變差異,從而對(duì)襯底的表面翹曲度和平整度實(shí)現(xiàn)高效修正,為后續(xù)加工提供基礎(chǔ)形態(tài)保障。

需要注意的是,雙面研磨的核心價(jià)值在于“形態(tài)修正”而非“損傷根除”。經(jīng)該工藝處理后,襯底表面仍會(huì)殘留厚度約0-25μm的表面及亞表面損傷層。而后續(xù)CMP工藝的材料去除厚度通常僅為3-5μm,遠(yuǎn)無法覆蓋雙面研磨遺留的損傷層去除需求,因此必須引入過渡工藝銜接。

吉致電子藍(lán)寶石拋光液白光干涉儀數(shù)據(jù)對(duì)比(750).jpg

2.單面精磨(銅盤研磨):銜接研磨與拋光的關(guān)鍵過渡

單面精磨(又稱銅盤研磨)的工藝定位恰好介于雙面研磨與CMP拋光之間,其加工精度和材料去除能力可實(shí)現(xiàn)“精準(zhǔn)過渡”。作為核心過渡工序,單面精磨能對(duì)雙面研磨后的襯底表面進(jìn)行深度處理,將殘留的表面損傷層厚度大幅降至數(shù)微米級(jí)別,精準(zhǔn)匹配后續(xù)CMP工藝的損傷層去除能力要求。

完成單面精磨后,襯底的宏觀表面質(zhì)量已滿足CMP前置要求,但微觀表面仍存在細(xì)微損傷。此時(shí)需通過化學(xué)機(jī)械粗拋光去除銅盤研磨殘留的微量損傷層,最終經(jīng)化學(xué)機(jī)械精拋光實(shí)現(xiàn)超光滑無損傷鏡面加工,使襯底表面粗糙度降至亞納米級(jí),完全契合LED芯片制備的極致要求。

二、耗材選擇關(guān)鍵:匹配工藝需求,提升加工效能

無論是雙面研磨的基礎(chǔ)修正,還是單面精磨的精準(zhǔn)過渡,乃至后續(xù)的CMP拋光,研磨拋光耗材的適配性直接決定加工效率、表面質(zhì)量與成品良率。選擇契合工藝特性的耗材,可實(shí)現(xiàn)“事半功倍”的加工效果,而吉致電子的藍(lán)寶石研磨拋光系列耗材,正是基于不同工藝需求研發(fā)的高效解決方案。

吉致電子 藍(lán)寶石拋光液/研磨液

吉致電子針對(duì)藍(lán)寶石襯底加工全流程,推出專用藍(lán)寶石粗拋液、精拋液,并搭配不同材質(zhì)的藍(lán)寶石研磨墊,形成一套完整的耗材解決方案。該方案通過精準(zhǔn)匹配雙面研磨、單面精磨及CMP拋光各階段的加工需求,在提升拋磨速率的同時(shí),最大限度保障加工質(zhì)量,經(jīng)大量客戶實(shí)際應(yīng)用驗(yàn)證,呈現(xiàn)出三大核心優(yōu)勢(shì):

拋磨速率更優(yōu):吉致電子藍(lán)寶石拋光液的拋磨速率顯著優(yōu)于同類競(jìng)品,有效縮短加工周期,提升生產(chǎn)效率;

表面質(zhì)量更精:使用該系列耗材后,藍(lán)寶石襯底表面劃傷數(shù)量遠(yuǎn)低于競(jìng)品處理效果,微觀表面平整度更出色;

粗糙度控制更準(zhǔn):經(jīng)吉致電子拋光液研磨墊搭配處理后,襯底表面粗糙度可穩(wěn)定達(dá)到亞納米級(jí),完全滿足LED芯片制備的嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。

從工藝適配到性能優(yōu)化,吉致電子始終以藍(lán)寶石襯底加工的核心需求為導(dǎo)向,通過專業(yè)的研磨拋光耗材解決方案,為客戶攻克拋光難題,助力提升LED芯片制備的整體質(zhì)量與效益。

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