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    適用范圍廣金屬、光電、半導體、硬盤、顯示器、
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    拋光效果好無桔皮、無麻點、無殘留刀痕
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    適用范圍廣廣泛適用于金屬、光電、半導體、硬盤、顯示器、
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    品牌企業,拋光行業前行者Brand enterprise, polishing industry leader
    • 19年傾心專注化學機械拋光耗材領域,行業經驗豐富
    • 公司面積 26.000㎡,員工達275人,每月產能60.000㎡
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    行業應用案例 / Industry Case

    吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光

    吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光

    不銹鋼獲取高質量的鏡面的傳統工藝主要采用的拋光技術:電解拋光、化學拋光和機械拋光?!?/p> 查看詳情

    氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光

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      氧化鋁陶瓷片的表面拋光具有一定難度,原因有兩個,一是氧化鋁材質硬度較高,難…

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    智能手表不銹鋼后蓋拋光

    智能手表不銹鋼后蓋拋光

    智能手表后蓋不銹鋼拋光,需要用到CMP工藝的粗拋和精拋。搭配吉致電子拋光液和拋光墊使…

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    碳化硅SiC拋光工藝

    碳化硅SiC拋光工藝

      根據半導體行業工藝不同,CMP拋光液可分為介質層化學機械拋光液、阻擋層化學機…

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    客戶感言/ Testimonials

    DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

    DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

    我司是做陶瓷覆銅板的,做的是DPC工藝。板材對粗糙度和平面度有嚴格要求,搭配吉致電子生產的研磨墊、研磨液拋光液效果很好,可以達到我司要求,為了回饋貴司免費提供我司拋光液樣品,我分享兩張…

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    解決拋光難題-----吉致電子陶瓷基板拋光液

    解決拋光難題-----吉致電子陶瓷基板拋光液

      陶瓷基板廠家陳總感言:  ——我們是做氧化鋁、氮化鋁、氮化硅陶瓷基板的廠家,這些陶瓷板的硬度都是比較高的,我們對板子的RA表面粗糙度有要求,試過好多種拋光工藝,最…

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    半導體拋光液國產平替----射頻濾波器拋光液

    半導體拋光液國產平替----射頻濾波器拋光液

      我們是廣東一家半導體廠商,主要是做射頻濾波器件的,制程其中有一道CMP工藝要用到拋光液等耗材。  近幾年隨著國家半導體事業的發展,很多物料遭受國外卡脖子限制,就算能買回來不僅…

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    吉致——我國化學機械拋光耗材優良企業!

    吉致電子科技有限公司創始于1997年,現已經有19年的研發經驗,專注于研發化學機械拋光耗材的領域,吉致主要研發兩大類產品有“拋光墊”“拋光液”。產品廣泛應用于金屬,光電,半導體,陶瓷,硬盤面板顯示器等需要精密研磨拋光的行業,廣泛用于平面拋光領域?,F已跟...

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    常見問題解答 /FAQ's

    CMP化學機械拋光在半導體領域的重要作用
      化學機械拋光(CMP)是半導體晶圓制造的關鍵步驟,這項工藝能有效減少和降低晶圓表面的不平整,達到半導體加工所需的高精度平面要求...
    第三代半導體--碳化硅和氮化鎵的區別
      隨著國家對第三代半導體材料的重視,近年來我國半導體材料市場發展迅猛,其中以碳化硅SiC與氮化鎵NaG為主的材料備受關注,兩者經...
    藍寶石襯底拋光液--納米氧化鋁拋光液/研磨液
      氧化鋁拋光液在LED行業的應用廣泛,如藍寶石襯底的CMP拋光,為避免大粒徑磨料對工件造成劃傷,通常選用粒徑為50∼20...
    半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區別
      常用的半導體拋光液,按拋光對象的不同分W鎢拋光液、CU銅拋光液、氧化層拋光液、STI拋光液等。其中銅拋光液slurry主要應用...
    打磨碳化硅需要哪種拋光墊?
      打磨碳化硅需要哪種拋光墊?  打磨碳化硅襯底分研磨和拋光4道工序:粗磨、精磨、粗拋、精拋。拋光墊的選擇根據CMP工藝...
    二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同
      二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產品。 硅溶膠拋光液是以液體形式...
    碳化硅Sic襯底加工流程有哪些
    碳化硅襯底是以高純硅粉和高純碳粉作為原材料,采用物理氣相傳輸法生長碳化硅晶體,加工制成碳化硅晶片,簡單流程可概括為原料合成→晶體生...
    半導體拋光---硅片拋光墊怎么選
      硅片拋光涉及到半導體工件的技術加工領域,硅片拋光墊的多孔結構和軟性磨料材料,可以適應不同硅片材料的表面結構,達到不同表面加工的...
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