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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子:半導(dǎo)體陶瓷CMP工藝拋光耗材解析[ 2025-05-16 17:45 ]
在半導(dǎo)體陶瓷的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝中,吉致電子(JEEZ Electronics)作為國(guó)產(chǎn)CMP耗材供應(yīng)商,其拋光液(Slurry)和拋光墊(Polishing Pad)等產(chǎn)品可應(yīng)用于陶瓷材料的精密平坦化加工。以下是結(jié)合吉致電子的技術(shù)特點(diǎn),半導(dǎo)體陶瓷CMP中的潛在應(yīng)用方案:吉致電子CMP拋光液在半導(dǎo)體陶瓷中的應(yīng)用半導(dǎo)體陶瓷CMP研磨拋光漿料特性與適配性CMP Slurry磨料類型:納米氧化硅(SiO2)漿料:適用于SiC、GaN等硬質(zhì)陶瓷,通過表面氧化反應(yīng)(如SiC + H2O2 → SiO2 +
http://www.lygpingan.cn/Article/jzdzbdttcc_1.html3星
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