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鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導(dǎo)體研磨液
磨料類型:納米SiO2
磨料粒徑:納米SiO2
鎢(W)拋光液·參數(shù)吉致電子,W SLURRY 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品名稱:鎢拋光液/WCMP研磨液/Wslurry/半導(dǎo)體拋光液
鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料,拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內(nèi)外同類產(chǎn)品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點
在金屬鎢(W)的CMP工藝中,可以分為兩種應(yīng)用場景:一種是作為上下Layer的連接導(dǎo)線,另一種則是在先進工藝中作為金屬柵極(Metal gate)。無論是哪種應(yīng)用場景,CMP工藝流程基本相同。
鎢CMP拋光液它主要用于金屬鎢(W)的CMP拋光,以達到精準的表面平整度和厚度控制。半導(dǎo)體W CMP拋光液通常包含了一些化學(xué)物質(zhì),如氧化劑、酸、堿等,以及磨料等。這些化學(xué)物質(zhì)和磨料的組合可以提供高選擇比和低表面粗糙度的拋光效果。在半導(dǎo)體制造中,W CMP拋光液廣泛用于金屬鎢的制造,如金屬鎢的連接導(dǎo)線和金屬柵極等。
我司產(chǎn)品金屬離子含量低,易清洗,可用于更先進的WCMP。
通風(fēng),陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽光直射及凍結(jié),零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進口同類產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
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