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- [行業(yè)資訊]化學(xué)機(jī)械CMPAl2O3氧化鋁精拋液[
2025-05-28 14:39
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吉致電子氧化鋁精拋液（CMP Slurry）采用高純度分級氧化鋁微粉為原料，經(jīng)特殊表面改性工藝處理，通過科學(xué)配方精密配制而成。具有以下顯著優(yōu)勢：適用于化學(xué)機(jī)械平面研磨工藝CMP場景---鋁合金、不銹鋼、鎢鋼、鑄鐵件等金屬材質(zhì);以及藍(lán)寶石、碳化硅襯底、光學(xué)玻璃、精密陶瓷基板等半導(dǎo)體襯底材料的精密拋光加工。氧化鋁精拋液性能優(yōu)勢突出：獨(dú)特的抗結(jié)晶配方，確保拋光過程穩(wěn)定對拋光設(shè)備無腐蝕，維護(hù)簡便殘留物易清洗，提高生產(chǎn)效率氧化鋁精拋液效果卓越：創(chuàng)新的化學(xué)機(jī)械協(xié)同作用機(jī)制，顯著提升拋光效率優(yōu)化的表面處理工藝，確保拋光面質(zhì)量達(dá)到
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http://www.lygpingan.cn/Article/hxjxcmpal2_1.html
- [吉致動態(tài)]納米拋光液---納米氧化鋁拋光液[
2022-08-31 17:24
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氧化鋁粉體具有多個晶體形態(tài)，常見的有Y，θ，α，δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉(zhuǎn)變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒，根據(jù)拋光(粗拋/精拋)的要求不同，a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光，氧化鋁的硬團(tuán)聚體，或超大顆粒越少越好，這些超大顆粒會在拋光過程中給晶體表面造成劃傷，導(dǎo)致整個拋光過程失敗。所以，在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過程中，如何控制超大顆粒是一關(guān)鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液，顆粒經(jīng)表面改性處理，按特殊化學(xué)配方充分混合制備
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http://www.lygpingan.cn/Article/nmpgynmyhl_1.html
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些