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[吉致動態(tài)]氧化鋁懸浮液在化學機械拋光（CMP）中的應用與優(yōu)化[ 2025-04-02 14:04 ]
化學機械拋光（CMP）是半導體制造、光學玻璃加工和集成電路生產中的關鍵工藝，而氧化鋁懸浮液因其優(yōu)異的機械磨削性能和化學可控性，成為CMP工藝的核心材料之一。吉致電子（JEEZ Electronics）作為CMP半導體精密電子材料供應商，致力于為客戶提供高性能的氧化鋁CMP懸浮液解決方案。本文將詳細介紹氧化鋁CMP懸浮液的關鍵特性、配方優(yōu)化及行業(yè)應用。1. 氧化鋁CMP懸浮液的核心要求在CMP工藝中，氧化鋁懸浮液（氧化鋁研磨液/拋光液）需滿足以下關鍵指標，以確保高拋光效率、低表面損傷和長期穩(wěn)定性：性能指標要求顆粒粒徑
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