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    [常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子--單晶硅與多晶硅的區別[ 2024-05-23 18:01 ]
    吉致電子粒徑小于100nm的球形氧化鈰拋光液可用于單晶硅片表面CMP及多晶硅CMP。下面簡(jiǎn)單談?wù)剢尉Ч韬投嗑Ч璧膮^別: 單晶硅和多晶硅是兩種不同的硅材料,它們的主要區別在于晶體結構、物理性質(zhì)和用途等方面。  ①晶體排列組成不一樣:  單晶硅是由許多晶體周期性排列而成的,其晶體結構具有高度的有序性和一致性,因此其晶體內部的原子排列和晶體缺陷都比較少。  多晶硅是由許多小的晶體組成的,每個(gè)小晶體的晶體結構都有一定的差異,因此其晶體內部的原子排列和晶體缺陷都比較復雜。 ②
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    [吉致動(dòng)態(tài)]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點(diǎn)[ 2023-03-03 09:15 ]
      通?;瘜W(xué)機械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液(又稱(chēng)稀土拋光液)。  納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進(jìn)的分散工藝,將納米氧化鈰粉體分散在水相介質(zhì)中,形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應用中,納米CeO2拋光液相對硅溶膠,具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優(yōu)勢,且PH中性,使用壽命長(cháng)、對拋光表面污染小,不易風(fēng)干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上,尤其是拋光超薄硅片,納米氧化鈰
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    [常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子---氧化鈰研磨液在半導體CMP制程中的作用[ 2023-02-10 13:09 ]
      粒徑30-50nm的球形氧化鈰研磨液用于半導體芯片制程:應用于芯片制程中氧化硅薄膜、集成電路STI(淺溝槽隔離層)CMP  STI目前已成為器件之間隔離的關(guān)鍵技術(shù),目前已取代LOCOS(硅的局部氧化)技術(shù)。其主要步驟包括在純硅片上刻蝕淺溝槽、進(jìn)行二氧化硅沉積、后用CMP技術(shù)進(jìn)行表面平坦化。目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料,在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產(chǎn)品。  納米氧化鈰拋光液在硅晶圓CMP平坦化的效果優(yōu)異  粒徑小于100nm的球形氧化鈰拋光液用于單晶硅片表面C
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    [行業(yè)資訊]稀土拋光液--氧化鈰拋光液的種類(lèi)[ 2022-11-29 16:27 ]
      隨著(zhù)光學(xué)技術(shù)和集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展,對光學(xué)元件的精密和超精密拋光以及集成電路的CMP拋光工藝的要求越來(lái)越高,甚至達到了極其苛刻的程度,尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。鈰系稀土拋光液因其切削能力強、拋光精度高、拋光質(zhì)量好、使用壽命長(cháng),在光學(xué)精密拋光領(lǐng)域發(fā)揮了極其重要的作用。吉致電子氧化鈰拋光液的種類(lèi)和固含量可按拋光工件的用途來(lái)分:根據氧化鈰的含量,氧化鈰拋光液可分為低鈰、中鈰和高鈰拋光液,其切削力和使用壽命也由低到高。1.含95%以上氧化鈰的鈰拋光液呈淡黃色,比重約7.3。主要適用于精密光學(xué)鏡片的
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    [常見(jiàn)問(wèn)題]什么是單一磨料的CMP拋光液?[ 2022-08-31 16:11 ]
    單一磨料拋光液化學(xué)機械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料,如氧化鋁拋光液(Al2O3)、二氧化硅拋光液(SiO2)、二氧化鈰拋光液(CeO2)、氧化鋯拋光液(ZrO2)和金剛石拋光液等。其中研究應用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高,多用于藍寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光,但含Al2O3的拋光液會(huì )出現選擇性低、分散穩定性不好、易團聚的問(wèn)題,容易在拋光表面造成劃傷,一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。氧化硅拋光液--SiO2具有良好的
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    [常見(jiàn)問(wèn)題]怎么提高氧化鈰拋光液的穩定性?[ 2022-07-26 15:28 ]
    怎么提高氧化鈰拋光液的穩定性?氧化鈰拋光液主要用于玻璃、藍寶石、光學(xué)及異形工件的拋磨,液體的分散懸浮狀態(tài)決定拋光液的使用效果和拋磨效率。磨料比重較大的話(huà)容易沉底,同時(shí)出現團聚現象會(huì )極大影響拋光效果,甚至損壞拋光設備。吉致電子氧化鈰拋光液的分散性、懸浮穩定性,主要與以下幾個(gè)方面相關(guān):1.分散劑種類(lèi),添加量;2.氧化鈰拋光液的PH值;3.氧化鈰拋光液的介質(zhì);注意這3點(diǎn)然后調整配方相信能獲得穩定性佳的拋光液產(chǎn)品。吉致電子氧化鈰拋光液由優(yōu)質(zhì)氧化鈰微粉制備而成,純度高,氧化鈰含量高,配方分散性好、乳液均勻懸浮性佳。切削能力強
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    [行業(yè)資訊]吉致電子--拋光液的主要成分和功能有哪些?[ 2022-07-22 16:52 ]
      拋光液的主要成分可分為以下幾類(lèi):氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。  硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料,通過(guò)特殊工藝(如水解法)生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛應用于多種納米級材料的高平坦化拋光,如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導體材料、精密光學(xué)器件、藍寶石襯底、藍寶石窗口等。  金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分,高分散配方,硬度高韌性好,有良好的高切削率,不易
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