- [行業(yè)資訊]吉致電子砷化鎵襯底CMP拋光液 | 高平坦度低缺陷半導(dǎo)體slurry[
2025-10-21 11:35
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吉致電子CMP拋光耗材廠家——精準(zhǔn)匹配半導(dǎo)體高端材料拋光需求在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展的今天，砷化鎵GaAs作為第二代半導(dǎo)體材料的代表，因其優(yōu)異的電子遷移率和直接帶隙特性，在射頻前端、光電器件和高速集成電路中扮演著不可替代的角色。然而，砷化鎵襯底的高效精密拋光一直是行業(yè)面臨的重大挑戰(zhàn)。砷化鎵CMP拋光的核心挑戰(zhàn)砷化鎵材料由兩種硬度和化學(xué)性質(zhì)差異顯著的原子構(gòu)成，在拋光過(guò)程中容易產(chǎn)生晶格損傷、表面粗糙和化學(xué)計(jì)量比失衡等問(wèn)題。傳統(tǒng)的拋光工藝難以同時(shí)實(shí)現(xiàn)全局平坦化、低表面損傷和高材料去除率，這直接影響著后
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吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些